PVD、CVD 真空鍍膜設備專題研究

產業報告
出版名稱： PVD、CVD 真空鍍膜設備專題研究
出版編號： MIRDC-0267-S204(88)
產業領域： 機械
產出單位： 金屬中心
作　　者： 陳建任

紙本價格： ＄2000
出版日期： 1999/07/01
===========================　內容摘要===========================
關鍵詞：
物理氣相沈積(pvd)、化學氣相沈積(cvd)、真空鍍膜設備(vacuum coater)、光磁記錄鍍膜、平面顯示器、半導體、機械功能鍍膜、光學鍍膜、太陽能電池、薄膜真空蒸鍍、抗電磁干擾鍍膜、裝飾鍍膜、光通訊元件鍍膜、其他先進鍍膜(生醫、微工具、高溫超導體)

真空鍍膜設備為半導體、平面顯示器、工具/五金、光學元件等產品生產所必備之設備，上述這些產品為我國產業發展及經濟成長之命脈所在，然而其生產設備幾乎完全仰賴進口，使我國產業之發展形同植基於浮萍之上，缺乏穩固根基。

PVD、CVD鍍膜設備之發展日新月異，而應用市場廣泛且生氣勃勃。本文之目的即是希望介紹真空鍍膜設備之應用，讓讀者了解其發展潛力與重要性，喚起各界的重視，並希望產、官、學、研共同努力，一方面為台灣的真空鍍膜設備產業立根基、另一方面希望則促使台灣能成為這一波真空鍍膜產業革命的獲利者。

本文主要內容包括：
全球PVD/CVD鍍膜設備市場現況
主要鍍膜設備應用產業現況與趨勢
台灣鍍膜設備產業現況
鍍膜設備產品發展現況與動向
競爭分析
我國真空鍍膜設備的發展策略與建議

本文提到的真空鍍膜設備下游應用領域包括：
光磁記錄鍍膜、平面顯示器、半導體、機械功能鍍膜、光學鍍膜、太陽能電池、薄膜真空蒸鍍、抗電磁干擾鍍膜、裝飾鍍膜、光通訊元件鍍膜、其他先進鍍膜 (生醫、微工具、高溫超導體)等產業。



第一章 緒論 6頁
第二章 鍍膜設備產品總論 32頁
第三章 全球鍍膜設備市場現況 46頁
第四章 主要鍍膜設備應用產業現況與趨勢 82頁
第五章 台灣鍍膜設備產業現況 23頁
第六章 鍍膜設備產品發展現況與動向 43頁
第七章 競爭分析 6頁
第八章 結論與建議 10頁




ps. 我有這一份 但是是pdf檔.. 所以先po大概